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装置開発室施設利用 公募要項

平成26年度共同利用研究(前期)公募要項へもどる

利用期間 平成26年4月~平成26年9月
申請は、随時受け付けます。(利用期間は、許可した日から平成26年9月30日までです。)
受入れの可否 利用状況及び申込書の研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。
施設利用日数 1回の利用日数は原則として7日以内とします。
利用状況、研究計画等を勘案し、利用日数を短縮していただくことがありま す。
利用方法 各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。
利用報告 施設利用実施報告書を、平成26年4月末日までに装置開発室長へ提出していただきます。一部の課題については、別途 Activity Report の提出をお願いする場合があります。また、「分子研レターズ」に成果報告をお願いすることがあります。
放射線業務従事
承認書の提出
電子ビーム熔接機を使用する場合は、申込書と併せて別紙様式第4号の承認書を提出してください。なお、従事期間は、個々に区切らず全体を包括するよう設定してください。
装置開発室の
設備利用
装置開発室では以下に示す設備を保有しております。研究装置の試作や共同研究などに利用できます。

主な設備備品
〔メカトロニクス・セクション〕

フォトリソ装置
 [ナノ]スピンコーター/ミカサ MS-A100(マイクロストラクチャー製作・評価支援)
 [ナノ]マスクアライナー/ミカサ MA-10(マイクロストラクチャー製作・評価支援)ほか
マシニングセンター(マキノ BN1-85)、NCフライス盤(マキノ AEV-74)、CNC旋盤(Mazak SQT100MY)、ワイヤー放電加工機(三菱 DWC90H、シャルミーROBOF1L2020SI)、形彫NC放電加工機(ソデック A35R)、電子ビーム溶接機(日本電気 EWB)、3D測定顕微鏡(オリンパス STM6DF)、走査型電子顕微鏡(キーエンス VE-8800)、非接触三次元測定装置(三鷹 NH-3SP)、原子間力顕微鏡(SII SPA400)他一般工作機械及びCAD・CAMシステムなど。

〔エレクトロニクス・セクション〕
プリント基板加工機(LPKF ProtoMat C60)、ネットワーク/スペクトラム/インピーダンス・アナライザ(アジレントテクノロジー 4396B)、ロジック・アナライザ(テクトロニクス TLA5201)、スペクトラムアナライザー(アドバンテスト R3361B)、デジタル オシロスコープ(レクロイ 6200A)、LCRメータ(HP 4275A)、ファンクション・ジェネレータ(テクトロニクス AFG3251)、直流電圧・電流源(エーディーシー 6243)など。


[ナノ]の表示のある機器を一つでも利用する場合は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム事業」としての取扱いとなります。[ナノテクノロジープラットフォーム]用の申込書にて申請してください。詳細は、ホームページ(http://nanoims.ims.ac.jp/ims/)をご覧ください。
装置開発室の
開発・製作依頼
装置開発室では、施設利用の一環として実験装置等の開発・製作の依頼を受け入れます。(材料費は負担願 います)これらは、分子科学分野への技術的貢献、装置開発室の技術水準の向上、装置開発室の保有する技術の積極的活用を目的としています。申込みに当たっ ては、事前に装置開発室の対応者と十分協議して下さい。